发明名称 |
积层体及其制造方法、以及底层形成用组合物 |
摘要 |
本发明的目的是提供一种金属层的密接性优异、金属层表面的净化性也优异的积层体的制造方法。本发明的积层体的制造方法包括:底层形成步骤,形成包含具有可氢化的共轭二烯化合物单元的聚合物、以及平均粒径为400nm以下的金属氧化物粒子;催化剂提供步骤,使包含镀敷催化剂或其前驱物且为碱性的镀敷催化剂液与底层接触,而在底层上提供镀敷催化剂或其前驱物;以及镀敷步骤,对提供了镀敷催化剂或其前驱物的底层进行镀敷,而在底层上形成金属层。 |
申请公布号 |
CN103998650A |
申请公布日期 |
2014.08.20 |
申请号 |
CN201380004383.3 |
申请日期 |
2013.01.28 |
申请人 |
富士胶片株式会社 |
发明人 |
安居院绫子;塚本直树;河野贵胤 |
分类号 |
C23C18/18(2006.01)I;H05K3/18(2006.01)I;H05K3/38(2006.01)I |
主分类号 |
C23C18/18(2006.01)I |
代理机构 |
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 |
代理人 |
臧建明 |
主权项 |
一种积层体的制造方法,其包括:底层形成步骤,形成包含具有可氢化的共轭二烯化合物单元的聚合物、以及平均粒径为400nm以下的金属氧化物粒子的底层;催化剂提供步骤,使包含镀敷催化剂或其前驱物且为碱性的镀敷催化剂液、与所述底层接触,而在所述底层上提供镀敷催化剂或其前驱物;以及镀敷步骤,对提供了所述镀敷催化剂或其前驱物的所述底层进行镀敷,而在所述底层上形成金属层。 |
地址 |
日本东京港区西麻布二丁目26番30号 |