| 发明名称 | 超导膜成膜用基板、超导线材和它们的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种超导膜成膜用基板，其具备基体和氧化物层，该基体由金属形成，该氧化物层直接形成在该基体上，具有10nm～300nm的层厚和以Ra计为50nm以下的算数平均粗糙度，并且该氧化物层以氧化铬为主体。本发明涉及一种超导膜成膜用基板的制造方法，其具备以下工序：直接在由金属形成的基体上形成氧化物层，该氧化物层具有10nm～300nm的层厚和以Ra计为50nm以下的算数平均粗糙度，并且该氧化物层以氧化铬为主体。 | ||
| 申请公布号 | CN102224552B | 申请公布日期 | 2014.08.20 |
| 申请号 | CN200980146380.7 | 申请日期 | 2009.11.19 |
| 申请人 | 财团法人国际超电导产业技术研究中心;古河电气工业株式会社;财团法人日本精细陶磁中心 | 发明人 | 宫田成纪;福岛弘之;栗木礼二;衣斐显;吉积正晃;木下晶雄;山田穣;塩原融;吉田竜视;加藤丈晴;平山司 |
| 分类号 | H01B12/06(2006.01)I;C01G1/00(2006.01)I;C01G3/00(2006.01)I;C22C19/03(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I | 主分类号 | H01B12/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人 | 丁香兰;张志楠 |
| 主权项 | 一种超导膜成膜用基板，其特征在于，其具备：基体，该基体由Ni基合金或Fe基合金形成，该Ni基合金或Fe基合金含有10质量％～30质量％的Cr，氧化物层，该氧化物层为使Cr从所述基体扩散而直接形成在该基体上，具有10nm～300nm的层厚和以Ra计为50nm以下的算数平均粗糙度，并且该氧化物层以氧化铬为主体，和中间层，该中间层在上述氧化物层之上形成以用于使超导膜成膜；所述中间层具备含有Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>的下层。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||