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<p>Vorrichtung zur Energieeinsparung und gleichzeitigen Erhöhung der Durchlaufgeschwindigkeit bei Vakuum-Beschichtungsanlagen die aus einer Abfolge von Sputter-Segmenten (3) und Gas-Trennsegmenten (2) mit einer durchlaufenden Substrat-Ebene (1) bestehen, mit den folgenden Merkmalen: a) die Sputter-Segmente (3) bestehen jeweils aus einer Kessel-Wanne (12) mit einer innenliegenden Transporteinrichtung (11) zum Transport von Substraten (1) und mindestens einem Kesseldeckel (4) der mittels eines Kessel-Flanschs (6) mit der Kessel-Wanne (4) verbunden ist, wobei der Kessel-Flansch (6) in unmittelbarer Nähe über der Substrat-Ebene (1) angesetzt ist und wobei sich ein Kathoden-Lagerblock (5) mit Targets (8) und Gas-Einlasskanälen (10) in unmittelbarer Substratnähe mit Spritzblechen (9) im Kessel-Deckel (4) befinden, b) die Gas-Trennsegmente (2) weisen im Bereich der Substrat-Ebene (1) einen, über die gesamte Länge des Gas-Trennsegments (2) verlaufenden, Tunneldeckel (14) auf, der mittels mehrerer Hub- und Absenkelemente (17) so an die Dicke des jeweiligen Substrats (1) angepasst werden kann, dass zwischen dem Substrat (1) und dem Tunneldeckel (14) in der Höhe nur ein geringer Freiraum-Spalt (18) verbleibt, c) die Evakuierung von Sputter-Segmenten (3) und/oder Gas-Trennsegmenten (2) erfolgt mittels einer oder mehrerer Vakuumpumpen (15), wobei die dabei geförderte Luft in einem volumenveränderlichen Luftspeicher (25) aufgefangen wird und beim anschließenden Wiederbelüften des betreffenden Segments (3, 2) wieder in dieses Segment (3, 2) befördert wird.</p> |
