| 发明名称 | 超临界CO2无水旋转经轴卧式染色釜及其染色系统 | ||
| 摘要 | 本实用新型涉及一种超临界CO<sub>2</sub>无水旋转经轴卧式染色釜及其染色系统，染色釜包括内设染色腔的染色釜体、釜盖、染色织物架及染色釜加热冷却装置，染色织物架包括中空且壁上布有出气微孔的染色经轴，染色釜体设使染色腔与外界连通出气的染色釜出气口；染色釜体呈卧式布设，染色经轴以卧式方式转动支撑连接于染色釜体内；染色釜体内设与染色腔并列隔离的进气腔，染色经轴的一端伸入进气腔内并设有经轴进气孔，染色釜体上设使进气腔与外部连通进气的染色釜进气口及带动染色经轴转动的转动驱动装置。本实用新型将染色方式由立式改为卧式，克服了重力因素对染色效果的影响，解决了现有技术中布匹染色不均匀的问题，既达到匀染效果，又提高了生产效率。 | ||
| 申请公布号 | CN203782399U | 申请公布日期 | 2014.08.20 |
| 申请号 | CN201420081359.1 | 申请日期 | 2014.02.25 |
| 申请人 | 中国科学院福建物质结构研究所 | 发明人 | 林锦新;崔红生;黄婷婷;高丹;杨大发;孔祥君 |
| 分类号 | D06B3/14(2006.01)I;D06B23/18(2006.01)I;D06B23/04(2006.01)I;D06B23/20(2006.01)I | 主分类号 | D06B3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 福州市众韬专利代理事务所(普通合伙) 35220 | 代理人 | 陈智雄;黄秀婷 |
| 主权项 | 一种超临界CO<sub>2</sub>无水旋转经轴卧式染色釜，它包括体内设有染色腔（1‑1）的染色釜体（1‑2）、扣置于染色釜体（1‑2）一端的用来启闭染色腔（1‑1）开口的釜盖（1‑3）、设置于染色腔（1‑1）体内且用来架设待染织物的染色织物架以及用来对染色釜体（1‑2）加热的染色釜加热冷却装置（1‑4），所述染色织物架包括中空且壁上布有多个出气微孔（1‑5）的染色经轴（1‑6），染色釜体（1‑2）上设有使染色腔（1‑1）与外界连通出气的染色釜出气口（1‑7）；其特征在于：所述染色釜体（1‑2）呈卧式布设，所述染色经轴（1‑6）以卧式方式转动支撑连接于染色釜体（1‑2）内；染色釜体（1‑2）体内还设有与染色腔（1‑1）并列隔离设置于染色釜体（1‑2）另一端的进气腔（1‑8），染色经轴（1‑6）的一端从染色腔（1‑1）穿出后伸入进气腔（1‑8）内，并且在该端部设有与染色经轴（1‑6）的中空内腔连通的经轴进气孔（1‑9），染色釜体（1‑2）上设有使进气腔（1‑8）与外部连通进气的染色釜进气口（1‑10）以及用来带动染色经轴（1‑6）转动的转动驱动装置。 | ||
| 地址 | 350000 福建省福州市鼓楼区杨桥西路155号 | ||