| 发明名称 | 相位差膜及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及相位差膜及其制造方法。提供具有规定延迟值、为高透明、且相位差的耐热性优异的相位差膜。相位差膜的制造方法，其中所述相位差膜是使含有(1)规定的硅树脂、以及(2)光聚合引发剂和/或(3)热聚合引发剂的树脂组合物固化，在100℃进行10小时加热处理后的相位差膜的相位差值变化量为0～20nm的相位差膜，该方法通过使树脂组合物中的上述(1)成分的不饱和基团减少0.1％～50％的一次固化而得到树脂成型体后，将该树脂成型体切成规定形状并固定在拉伸夹具上，在任意方向以拉伸倍率5～700％的范围进行拉伸而得到拉伸树脂成型体，在将该拉伸树脂成型体固定于拉伸夹具的状态下进一步加热和/或照射能量射线而使之二次固化，然后冷却到室温。 | ||
| 申请公布号 | CN101825734B | 申请公布日期 | 2014.08.20 |
| 申请号 | CN201010127064.X | 申请日期 | 2010.03.04 |
| 申请人 | 新日铁住金化学株式会社 | 发明人 | 佐藤惠;矶崎正义;林敬一;安藤秀树 |
| 分类号 | G02B5/30(2006.01)I;G02B1/04(2006.01)I;G02F1/13363(2006.01)I;C08L83/07(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人 | 蒋亭;苗堃 |
| 主权项 | 一种相位差膜，其特征在于，是使树脂组合物固化而成的相位差膜，在100℃进行10小时加热处理后的相位差膜的相位差值变化量为0～20nm的范围，所述树脂组合物含有(1)下述通式(1)所表示的数均分子量在1000～80000范围的硅树脂、以及(2)光聚合引发剂和/或(3)热聚合引发剂，<img file="FSB0000119028440000011.GIF" wi="1132" he="317" />式中，X是具有至少一个硅原子和至少一个芳香族基团的2价基团，R<sub>1</sub>是具有(甲基)丙烯酰基的有机官能团，R<sub>2</sub>表示具有(甲基)丙烯酰基或乙烯基的有机官能团、碳原子数为1～25的脂肪烃、碳原子数为6～15的取代或未取代的脂环、或者碳原子数为6～15的取代或未取代的芳香环，l=1、m=1～3、n是2～290。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||