| 发明名称 | Elastic membrane for semiconductor wafer polishing | ||
| 摘要 | |||
| 申请公布号 | USD711330(S1) | 申请公布日期 | 2014.08.19 |
| 申请号 | US201129384219F | 申请日期 | 2011.01.28 |
| 申请人 | Ebara Corporation | 发明人 | Fukushima Makoto;Yasuda Hozumi;Nabeya Osamu;Watanabe Katsuhide;Namiki Keisuke |
| 分类号 | 13-03 | 主分类号 | 13-03 |
| 代理机构 | Sughrue Mion, PLLC | 代理人 | Sughrue Mion, PLLC |
| 主权项 | The ornamental design for an elastic membrane for semiconductor wafer polishing, as shown and described. | ||
| 地址 | Tokyo JP | ||