| 摘要 |
Inyector (3) para un sistema de deposición de vapor bajo vacío, comprendiendo dicho inyector: - un conducto de inyección apto para recibir materiales vaporizados procedentes de una fuente (2) de evaporación bajo vacío, y - un difusor (4) que comprende una pluralidad de boquillas para difundir dichos materiales vaporizados al interior de una cámara (5) de deposición bajo vacío, comprendiendo cada boquilla un canal (13) apto para conectar dicho conducto de inyección a dicha cámara (5) de deposición, caracterizado por que dicho difusor (4) presenta una distribución de boquillas que varía espacialmente, comprendiendo por lo menos una de dichas boquillas por lo menos un inserto de difusor desmontable (9), comprendiendo dicho difusor (4) unos medios de recepción de inserto de difusor y comprendiendo dicho inserto de difusión desmontable (9) unos medios de unión (15) aptos para ser ajustados a dichos medios de recepción, y siendo por lo menos un inserto de difusor desmontable (9c) apto para obturar una boquilla. |
