发明名称 |
用于形成含有砷掺杂剂之基材之溶液之调配物及方法;FORMULATIONS OF SOLUTIONS AND PROCESSES FOR FORMING A SUBSTRATE INCLUDING AN ARSENIC DOPANT |
摘要 |
本发明描述溶液之调配物及用以形成含有掺杂剂之基材之方法。在特定实施例中,该掺杂剂可含有砷(As)。在一个实施例中,提供含有溶剂及掺杂剂之掺杂剂溶液。在一个特定实施例中,该掺杂剂溶液之闪点可至少约等于能够使得该基材之表面处之原子连接至该掺杂剂溶液之含砷化合物的最低温度。在一个实施例中,该基材之表面处的许多矽原子共价键结至该含砷化合物。 |
申请公布号 |
TW201432104 |
申请公布日期 |
2014.08.16 |
申请号 |
TW102140213 |
申请日期 |
2013.11.05 |
申请人 |
黛纳罗伊有限责任公司 |
发明人 |
赫斯泰勒 史宾塞 艾瑞奇;波勒 金柏莉 多娜;莫迪 雷斯里 山;麦肯力 彼得 伯恩;刘俊佳 |
分类号 |
C30B31/04(2006.01);C07F9/70(2006.01);H01L21/228(2006.01);H01L29/167(2006.01) |
主分类号 |
C30B31/04(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>陈长文</name> |
主权项 |
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地址 |
DYNALOY, LLC 美国 |