发明名称 电子装置之制造方法
摘要 本发明提供一种可应对即时需求、具备高精细且可简便地形成之电极图案的电子装置之制造方法。于基板1上,利用气幕方式雷射CVD法,形成包含与该基板1不同之材质且具有高于该基板1之表面能之电极图案形状之第一层1,于上述第一层1之上表面,利用导电性奈米墨水形成第二层2,藉此,形成电子装置之电极图案。
申请公布号 TW201432800 申请公布日期 2014.08.16
申请号 TW103101024 申请日期 2014.01.10
申请人 V科技股份有限公司 发明人 水上诚;奥慎也;时任静士;朱珉彻;铃木良和
分类号 H01L21/28(2006.01);H05K3/18(2006.01) 主分类号 H01L21/28(2006.01)
代理机构 代理人 <name>陈长文</name>
主权项
地址 V TECHNOLOGY CO., LTD. 日本