发明名称 |
用于极紫外光源之观察埠保护器;VIEWPORT PROTECTOR FOR AN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE |
摘要 |
一用于一真空腔室的一观察埠之保护器系包括一基材材料,其吸收具有一经放大光束的一波长之辐射以及具有被包括在一当被经放大光束离子化时产生极紫外(EUV)光之标靶材料发射光谱中的一波长之辐射。基材材料系透射可见或近红外光的一或多者。保护器亦包括形成于基材材料上之一层,且该层系反射具有经放大光束的波长之辐射。 |
申请公布号 |
TW201433215 |
申请公布日期 |
2014.08.16 |
申请号 |
TW102138447 |
申请日期 |
2013.10.24 |
申请人 |
希玛有限责任公司 |
发明人 |
塞奈凯里米恩 法汉 |
分类号 |
H05G2/00(2006.01);G21K5/00(2006.01) |
主分类号 |
H05G2/00(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>恽轶群</name><name>陈文郎</name> |
主权项 |
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地址 |
CYMER, LLC 美国 |