| 发明名称 |
包括离子化合物之光阻剂;PHOTORESISTS COMPRISING IONIC COMPOUND |
| 摘要 |
本发明系提供新颖之光阻剂组成物，其包括含有辐射不敏感性离子化合物之成分。本发明之较佳光阻剂可包含具有光酸不稳定基团之树脂；光酸产生剂化合物；以及辐射不敏感性离子化合物，其可作用减少非所欲之光产生酸由光阻剂涂布层之未经曝光区扩散出来。 |
| 申请公布号 |
TW201431927 |
申请公布日期 |
2014.08.16 |
| 申请号 |
TW102138865 |
申请日期 |
2013.10.28 |
| 申请人 |
罗门哈斯电子材料有限公司 |
发明人 |
波乐斯 葛哈德;刘琮;徐承柏;吴昌毅 |
| 分类号 |
C08L101/00(2006.01);C08K5/16(2006.01);C08K5/17(2006.01);C08K5/36(2006.01);G03F7/038(2006.01);G03F7/00(2006.01) |
主分类号 |
C08L101/00(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
<name>洪武雄</name><name>陈昭诚</name> |
| 主权项 |
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| 地址 |
ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC 美国 |
