光酸产生化合物及包括该化合物之光阻剂组成物、包括该光阻剂之经涂覆物件及制造物件之方法;PHOTOACID GENERATING COMPOUND AND PHOTORESIST COMPOSITION COMPRISING SAME, COATED ARTICLE COMPRISING THE PHOTORESIST AND METHOD OF MAKING AN ARTICLE

摘要

一种具有式(I)之化合物：;其中，a系1至10之整数；且x系1至3之整数；X 1 包含氟醇、氟化酯、或氟化酐；Y系单键、C1-20伸烷基、O、S、NR、酯、碳酸酯、磺酸酯、碸或磺醯胺，其中，R系H或C1-20烷基，且其中，该C1-20伸烷基系结构上仅由碳构成，或该C1-20伸烷基中之一个或多个结构性碳原子系藉由氧、羰基、酯或包含前述之至少一者的组合置换；Ar系经取代或未经取代之C5或更大之单环、多环或稠合多环之环烷基，或系经取代或未经取代之C5或更大之单环、多环、或稠合多环之芳基，其中，该环烷基或芳基系碳环或包含杂原子，该杂原子包含O、S、N、F、或包含前述之至少一者的组合；每一R 1 独立为经取代之C5-40芳基、经取代之C5-40杂芳基、C1-40烷基、C3-40环烷基，其中，当x为1时，两个R 1 基系分离或彼此键结而形成C4-40环结构；以及，Z - 系羧酸根、硫酸根、磺酸根、胺基磺酸根、或磺醯亚胺之阴离子，其中，当Y为单键时，Z - 不是磺酸根。