发明名称 |
形成包含紫外光可固化有机矽氧烷树脂之平坦化层之方法以及藉其所形成的平坦化层;METHOD OF FORMING PLANARIZED LAYER INCLUDING UV CURABLE ORGANIC SILOXANE RESIN AND PLANARIZED LAYER FORMED THEREBY |
摘要 |
本发明提供一种形成包含有紫外光可固化有机矽氧烷树脂之平坦化层之方法,以及藉其所形成之平坦化层。该方法包括于一有闸极之基材上形成一紫外光可固化有机矽氧烷树脂层;透过由基材朝上方照射紫外光以形成一固化有机矽氧烷树脂层,但其条件为该闸极上方部分未曝露于紫外光,藉此保留一未固化有机矽氧烷树脂层;使用显影液移除未固化有机矽氧烷树脂层;且使用显影液蚀刻该固化有机矽氧烷树脂层。根据该形成平坦化层之方法中,由厚金属布线产生的厚度步骤可较佳地平坦化,而实现低电阻的金属布线,可用于开发具大尺寸及高解析的超高速TFT。 |
申请公布号 |
TW201432393 |
申请公布日期 |
2014.08.16 |
申请号 |
TW102139496 |
申请日期 |
2013.10.31 |
申请人 |
三星精密化学股份有限公司 |
发明人 |
宋夫燮;孙寅英 |
分类号 |
G03F7/26(2006.01);H01L21/336(2006.01);G03F7/038(2006.01);G03F7/075(2006.01);H01L29/78(2006.01);H01L21/02(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/26(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
<name>谢秉原</name> |
主权项 |
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地址 |
SAMSUNG FINE CHEMICALS CO., LTD 南韩 |