发明名称 复合铜箔及复合铜箔的制造方法
摘要 本发明提供一种复合铜箔及复合铜箔的制造方法,在维持基材之透过率的同时得到与基材的高密合性,所述复合铜箔具有轧制铜箔、形成在轧制铜箔之至少单面上的铜镀层、以及形成在铜镀层上包含平均粒径为0.05μm以上0.30μm以下之粗化粒的粗化铜镀层,粗化粒的最大粒径与最小粒径的粒径差的百分比为65%以下,在将粗化铜镀层从厚度方向截断的剖面中,形成如下状态:粗化粒连续地在20μm以上的距离不中断而在铜镀层上相连。
申请公布号 TW201431675 申请公布日期 2014.08.16
申请号 TW103102965 申请日期 2014.01.27
申请人 SH铜业股份有限公司 发明人 后藤千鹤;青山拓矢
分类号 B32B15/04(2006.01);C25D7/06(2006.01);C25D5/12(2006.01);C25D3/38(2006.01);C25D3/12(2006.01);C25D3/22(2006.01);B05D7/14(2006.01) 主分类号 B32B15/04(2006.01)
代理机构 代理人 <name>洪尧顺</name>
主权项
地址 SH COPPER PRODUCTS CO., LTD. 日本