VERFAHREN ZUM FREILEGEN EINER SCHICHT

摘要

Ein Verfahren zum Freilegen einer in einem Substrat vergrabenen Schicht über einen Graben mit isolierter Seitenwand und isoliertem Boden umfasst die Schritte des Aufbringens eines Oxids auf das Substrat und des anisotropischen Ätzens. Das Aufbringen des Oxids auf dem Substrat erfolgt zumindest in einem Bereich des Grabens, so dass das Oxid von einer Kante des Grabens in den Graben hineinragt. Das Hineinragen des Oxids schirmt beim anisotropischen Ätzen zumindest des isolierten Bodens des Grabens die isolierte Seitenwand des Grabens.