发明名称 |
扭曲指纹的校正方法及系统 |
摘要 |
本发明提出一种扭曲指纹的校正方法及系统,其中方法包括以下步骤:获得多组扭曲参考指纹及与该扭曲参考指纹对应的正常指纹,得到每个扭曲参考指纹的稠密扭曲场及特征,以此来生成扭曲参考指纹库;提取待校正扭曲指纹的特征;在扭曲参考指纹数据库中搜索与待校正扭曲指纹的特征匹配的扭曲参考指纹的特征;获得与特征匹配的扭曲参考指纹对应的稠密扭曲场,并根据该稠密扭曲场对待校正扭曲指纹进行校正。根据本发明的方法,通过生成扭曲参考指纹库,并利用所提取的扭曲指纹的特征在扭曲参考指纹库得到其对应的稠密扭曲场,以对扭曲指纹进行有效地校正,从而方便进一步的分析,同时具有良好的可移植性。 |
申请公布号 |
CN103984929A |
申请公布日期 |
2014.08.13 |
申请号 |
CN201410214949.1 |
申请日期 |
2014.05.20 |
申请人 |
清华大学 |
发明人 |
冯建江;周杰;司轩斌 |
分类号 |
G06K9/00(2006.01)I |
主分类号 |
G06K9/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 |
代理人 |
张大威 |
主权项 |
一种扭曲指纹的校正方法,其特征在于,包括以下步骤:扭曲参考指纹库生成步骤,获得多组扭曲参考指纹及与该扭曲参考指纹对应的正常指纹,得到每个扭曲参考指纹的稠密扭曲场及特征,以生成扭曲参考指纹库;特征提取步骤,提取待校正扭曲指纹的特征;特征匹配步骤,在所述扭曲参考指纹库中搜索与所述待校正扭曲指纹的特征匹配的扭曲参考指纹的特征;以及校正步骤,获得与特征匹配的所述扭曲参考指纹对应的稠密扭曲场,并根据所述稠密扭曲场对所述待校正扭曲指纹进行校正。 |
地址 |
100084 北京市海淀区100084-82信箱 |