| 发明名称 | 抗反射光致抗蚀剂组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物，其包含聚合物，交联剂和酸产生剂，其中聚合物包含至少一个结构1单元，(结构式I)(I)<img file="DDA0000151186480000011.tif" wi="329" he="227" />其中，X是连接部分，其选自非芳族的(A)组成部分，芳族(P)组成部分及其混合物，R′是结构(2)的基团，R″独立地选自氢，结构(2)的组成部分，Z以及W-OH，其中Z是(C<sub>1</sub>-C<sub>20</sub>)烃基组成部分以及W是(C<sub>1</sub>-C<sub>20</sub>)亚烃基连接部分，以及，Y′独立地是(C<sub>1-</sub>C<sub>20</sub>)亚烃基连接部分，其中结构(2)是(结构式II)(II)<img file="DDA0000151186480000012.tif" wi="355" he="191" />其中R<sub>1</sub>以及R<sub>2</sub>独立地选自H以及C<sub>1</sub>-C<sub>4</sub>烷基以及L是有机烃基。此外本发明涉及使该抗反射涂料组合物成像的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN102575127B | 申请公布日期 | 2014.08.13 |
| 申请号 | CN201080045299.2 | 申请日期 | 2010.10.29 |
| 申请人 | AZ电子材料美国公司 | 发明人 | 姚晖蓉;林观阳;M·O·奈塞尔 |
| 分类号 | C09D167/00(2006.01)I;G03F7/09(2006.01)I | 主分类号 | C09D167/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 夏正东 |
| 主权项 | 用于光致抗蚀剂层的抗反射涂料组合物，其包含聚合物、交联剂以及酸产生剂，其中该聚合物包含至少一个结构1单元，<img file="FDA0000487825210000011.GIF" wi="454" he="363" />其中，X是选自非芳族(A)组成部分、芳族(P)组成部分及其混合物的连接部分，R'是结构(2)的基团，其中结构(2)是衍生自通过采用氟化缩水甘油基封端反应物将羧基封端的<img file="FDA0000487825210000012.GIF" wi="549" he="231" />其中R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>是H以及L是氟化烷基，R"独立地选自氢、结构(2)的组成部分，其中R<sub>1</sub>和R<sub>2</sub>是H以及L是氟化烷基和进一步其中结构(2)是衍生自通过采用氟化缩水甘油基封端反应物将羧基封端，以及Y'独立地是(C<sub>1</sub>‑C<sub>20</sub>)亚烃基连接部分。 | ||
| 地址 | 美国新泽西 | ||