光刻设备、照射系统、投影系统以及使用光刻设备制造器件的方法

摘要

本发明公开了一种光刻设备、照射系统、投影系统以及使用光刻设备制造器件的方法。提供一种气体幕帘以将光刻设备的构件与被污染气体分开。气体幕帘通过开口供给。开口位于与构件的表面接触的保护环境的边界处。气体幕帘可以将构件与设备的移动部分分开。

主权项

一种光刻设备，包括：具有与保护气体接触的被保护表面的光学构件；和保护装置，包括至少一个伸长的开口，所述至少一个伸长的开口配置成沿不邻接所述被保护表面的路径将气流跨经光学构件的光轴引导至除所述被保护表面以外的表面，其中，所述气流阻止气体从所述气流的相对侧到达所述气流的与所述被保护表面相同的一侧并限定保护环境的边界，所述保护环境位于保护装置的气流的与光学构件的被保护表面相同的一侧，所述至少一个伸长的开口沿垂直于扫描方向的方向延伸。