一种用于氧化物材料体系的新型蚀刻液及其蚀刻方法和应用

摘要

本发明公开了一种用于氧化物材料体系的新型蚀刻液，该新型蚀刻液包括氧化物蚀刻溶液、起到稠度调节作用的调节剂以及水；同时本发明还公开了上述新型蚀刻液的蚀刻方法及应用。本发明公开的新型蚀刻液和蚀刻方法可普遍适用于Sn、Zn、Al、Ga、In基及其合金氧化物薄膜材料刻蚀，尤其是ZnO、AZO、GZO、IGZO、IZO等氧化物材料的刻蚀，也可广泛的用于制备精细电子部件中氧化物材料的刻蚀，例如半导体光电器件、太阳能电池、TFT薄膜晶体管、半导体集成电路和透明电极等。本发明的新型蚀刻液相较于传统的刻蚀液，其具有抑制侧蚀、防止刻蚀不均以及防止刻蚀残留的效果。

主权项

一种用于氧化物材料体系的新型蚀刻液，其特征在于：包括氧化物蚀刻溶液、起到稠度调节作用的调节剂以及水。