基板处理装置及基板处理方法

摘要

本发明提供基板处理装置及基板处理方法，本发明的基板处理装置，其特征在于，包括：密闭腔室，其内部空间相对外部密闭，该密闭腔室包括具有开口的腔室主体、能旋转地设置在所述腔室主体上并使所述开口闭塞的盖部件、用液体密封所述盖部件与所述腔室主体之间的第一液体密封结构；盖部件旋转单元，其用于使所述盖部件旋转；基板保持旋转单元，其在所述密闭腔室的内部空间内，一边保持基板一边使该基板旋转；和处理液供给单元，其向借助所述基板保持旋转单元旋转的基板供给处理液。

主权项

一种基板处理装置，其特征在于，包括：密闭腔室，其内部空间相对外部密闭，该密闭腔室包括具有开口的腔室主体、能旋转地设置在所述腔室主体上并使所述开口闭塞的盖部件、用液体密封所述盖部件与所述腔室主体之间的第一液体密封结构，盖部件旋转单元，其用于使所述盖部件旋转，基板保持旋转单元，其在所述密闭腔室的内部空间内，一边保持基板一边使该基板旋转，处理液供给单元，其向借助所述基板保持旋转单元旋转的基板供给处理液，第一移动单元，该第一移动单元使所述基板保持旋转单元及所述密闭腔室中至少一方移动，从而使所述基板保持旋转单元所保持的基板与所述盖部件接近/离开；所述第一移动单元使所述基板保持旋转单元及所述密闭腔室中至少一方在液体处理位置与干燥位置之间移动，所述液体处理位置是利用由所述处理液供给单元供给的处理液对基板实施液体处理的位置，所述干燥位置是指，与所述液体处理位置相比基板更接近所述盖部件以便对基板实施干燥处理的位置；所述盖部件具有与所述基板保持旋转单元所保持的基板的整个主面对置的基板对置面，所述基板处理装置还包括干燥控制单元，该干燥控制单元控制所述基板保持旋转单元及所述盖部件旋转单元，使所述基板保持旋转单元所保持的基板及所述盖部件分别以规定的干燥转速向相同方向旋转。