一种采样光纤光栅的刻写方法

摘要

本发明公开了一种采样光纤光栅的刻写方法，该方法采用的具体装置结构包括：紫外光源(101)、全反射镜(102)、可控电动平移平台(103)、柱透镜(104)、光栅相位掩模板(105)、光纤夹持拉伸系统(106)。本发明可以刻写布拉格型采样光纤光栅，利用刻写的采样光纤光栅在多通道滤波、色散补偿方面具有很强的应用性。该发明结构简单，稳定性高，可调节性强。

主权项

一种采样光纤光栅的刻写方法，其特征在于：该方法采用的装置结构由紫外光源(101)、全反射镜(102)、可控电动平移平台(103)、准直聚焦柱透镜(104)、光栅相位掩膜板(105)和光纤夹持拉伸系统(106)组成，该刻写方法的具体过程如下：紫外光源(101)产生的紫外光，经全反射镜(102)反射后照射到准直聚焦柱透镜(104)，经透镜聚焦到光栅相位掩膜板(105)上，透射光通过相位掩模板后能够产生±1级衍射，衍射光形成的干涉光对被刻写光纤(107)进行曝光，刻写过程中可控电动平移平台(103)带动全反射镜(102)匀速平移引起曝光位置在被刻写光纤(107)上的匀速平移，光纤夹持拉伸系统(106)可以保持被刻写光纤(107)伸直同时等时间间隔逐步拉伸被刻写光纤(107)，逐步改变光纤光栅周期达到对光纤光栅的反射波长进行采样的目的。针对准直聚焦柱透镜(104)聚焦后光斑较大情况，需在相邻周期光栅间预留不曝光区域以避免相邻光栅重叠。