发明名称 场发射显示器及其显示阵列基板的制造方法
摘要 一种场发射显示器及其显示阵列基板的制造方法,此显示阵列基板的制造方法包括以下步骤。提供一具有一介电层的基材。将多个高分子颗粒附着于介电层上。以氧等离子体处理附着的高分子颗粒,以减小每一高分子颗粒的粒径,使这些高分子颗粒彼此分离。形成一栅极层覆盖介电层以及附着其上的高分子颗粒。移除附着在介电层上的高分子颗粒,而在栅极层中形成多个开口暴露出一部分的介电层。移除暴露部分的介电层,以在介电层中形成多个孔洞。于每一孔洞中形成一发射器。本发明同时具有提高亮度以及减少缺陷的优点。
申请公布号 CN102436992B 申请公布日期 2014.08.13
申请号 CN201110378969.9 申请日期 2011.11.21
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 陈宗汉;邱胜正
分类号 H01J9/20(2006.01)I 主分类号 H01J9/20(2006.01)I
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人 李琳;张龙哺
主权项 一种显示阵列基板的制造方法,适用于一场发射显示器,包含:提供一基材,该基材包含一介电层;附着多个高分子颗粒于该介电层上;以氧等离子体处理所述多个附着的高分子颗粒,减小每一所述多个高分子颗粒的一粒径,使所述多个高分子颗粒彼此分离;形成一栅极层覆盖该介电层以及所述多个附着的高分子颗粒;移除所述多个附着的高分子颗粒,以于该栅极层中形成多个开口暴露出一部分的该介电层;移除该暴露部分的介电层,以于该介电层中形成多个孔洞;以及于每一所述多个孔洞中形成一发射器。
地址 中国台湾新竹市