半导体制造车间环境监控系统

摘要

本实用新型揭露了一种半导体制造车间环境监控系统，设置了备用空气取样系统，取样环境记录系统以及数据库，能够记录取样时的环境参数以及历史分析结果，在分析数据出现异常时可以通过比对历史数据以及备用空气取样系统的数据进行判断，并自动进行重新取样，帮助工作人员更准确的监控半导体制造车间的空气环境，以及对事件发生后进行数据分析。

主权项

一种半导体制造车间环境监控系统，包括空气取样系统和检测系统，所述空气取样系统将取样结果传递至检测系统，其特征在于，所述半导体制造车间环境监控系统还包括：备用空气取样系统、分析结果判定系统、取样环境记录系统以及数据库；所述备用空气取样系统用于在所述空气取样系统对取样点进行取样时同时对取样点取样，并将取样结果传递至检测系统；所述取样环境记录系统用于分别记录所述空气取样系统和备用空气取样系统取样时的环境状态，并将记录结果传递至分析结果判定系统；所述检测系统用于分析所述空气取样系统和备用分析空气取样系统取到的空气样本，并将分析结果分别传递至分析结果判定系统及数据库；所述数据库用于记录来自检测系统的不同取样点样本的历次分析结果；所述分析结果判定系统根据数据库的对应取样点的历次分析结果判定所述空气取样系统的分析结果是否异常，根据取样环境记录系统的数据判定所述空气取样系统和备用空气取样系统的取样是否正常。