发明名称 |
一种提高静态随机储存器读出冗余度的方法 |
摘要 |
本发明一种提高静态随机储存器读出冗余度的方法,其中,包括以下工艺,通过移除控制管的多晶硅预注入工艺,降低了控制管的多晶硅掺杂浓度,增大了控制管的等效电阻,提高了随机存储器读出冗余度。通过本发明一种提高静态随机储存器读出冗余度的方法,能够通过不再对控制管区域进行预注入,有效地使控制管多晶硅栅的掺杂浓度降低,从而增大了多晶硅栅的寄生电阻以及多晶硅栅耗尽现象,导致控制管的阈值电压增加,开启电流减小,同时增大了控制管的等效电阻,在读取过程中,降低了节点8的电位,从而提高了随机存储器的读出冗余度。 |
申请公布号 |
CN102832174B |
申请公布日期 |
2014.08.13 |
申请号 |
CN201210158714.6 |
申请日期 |
2012.05.22 |
申请人 |
上海华力微电子有限公司 |
发明人 |
俞柳江 |
分类号 |
H01L21/8244(2006.01)I;H01L21/265(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/8244(2006.01)I |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 31213 |
代理人 |
王敏杰 |
主权项 |
一种提高静态随机储存器读出冗余度的方法,其特征在于,包括以下工艺步骤:步骤一,在版图上生成NMOS多晶硅栅预注入光刻板,使得普通NMOS区域被打开,并使SRAM版图中控制管区域被覆盖,下拉管区域被打开;步骤二,在版图上生成PMOS多晶硅栅预注入光刻板,使得普通PMOS区域和SRAM版图中上拉管被打开;步骤三,利用NMOS多晶硅栅预注入光刻板进行多晶硅栅预注入工艺,对普通NMOS区域和SRAM版图中下拉管区域进行第五族元素的注入;步骤四,利用PMOS多晶硅栅预注入光刻版进行多晶硅栅预注入工艺,对普通PMOS区域和SRAM版图中上拉管区域进行第三族元素的注入,以完成最后的注入工艺。 |
地址 |
201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 |