氟化氩浸润式曝光用化学增幅正型光阻材料及图案形成方法

摘要

本发明提供一种氟化氩浸润式曝光用化学增幅正型光阻材料，其含有以下成分作为必要成分：;(A)式(1-1)表示之3,3,3-三氟-2-羟基-2-三氟甲基丙酸鋶盐;S+(Ar’)3 (1-1);(Ar’为芳基，或也可多数Ar’彼此直接或经由氧原子、亚甲基、碸基或羰基而键结并与硫原子一起形成含芳香环之环)；(B)式(1-2)表示之酸产生剂、;S+(Ar’)3 (1-2);(R4为烷基、烯基或芳烷基，R5为氢原子或三氟甲基，Ar’同上定义)；;(C)基础树脂，系具有经酸不稳定基保护之酸性官能基之对硷显影液不溶或难溶性的树脂，且当该酸不稳定基脱保护时成为对硷显影液可溶；;(D)有机溶剂。;本发明之光阻材料使用之羧酸鋶盐，若使用于光阻材料，疏水性高、对于浸润水之溶离低、能控制酸扩散，故能构建高解像性之图案轮廓。

主权项

一种氟化氩浸润式曝光用化学增幅正型光阻材料，其特征为包含以下成分作为必要成分：(A)下列通式(1-1)表示之3,3,3-三氟-2-羟基-2-三氟甲基丙酸鋶盐；(式中，Ar’表示也可含杂原子之非经取代或经取代之碳数6~20之芳基，或多数Ar’彼此也可直接或经由氧原子、亚甲基、碸基或羰基而键结并与此等所键结之硫原子一起形成含芳香环之环)；(B)下列通式(1-2)表示之酸产生剂中之1种或2种以上；(式中，R4表示也可含杂原子之碳数1~30之烷基、烯基或芳烷基；R5表示氢原子或三氟甲基；Ar’同上述定义)；(C)基础树脂，系具有经酸不稳定基保护之酸性官能基之对硷显影液不溶或难溶性的树脂且当该酸不稳定基脱保护时成为对硷显影液可溶；以及(D)有机溶剂。