决定方法、曝光方法和储存媒体

摘要

本发明提供决定待形成在曝光设备中之照明光学系统的光瞳平面上之光强度分布的决定方法，该方法包括设定图例(cutline)之步骤，该图例被使用于评估投射光学系统的影像平面上所形成之罩幕的图案之影像、及该影像之目标位置；与决定元件光源之强度的步骤，使得在来自所计算之影像的图例上，该罩幕的图案之影像的边缘间之中点的位置接近该目标位置，藉此决定该光强度分布。

主权项

一种决定待形成在照明光学系统的光瞳平面上之光强度分布的决定方法，该照明光学系统照明包括该照明光学系统及投射光学系统的曝光设备中之罩幕，该投射光学系统将该罩幕之图案投射在基板上，藉由电脑施行以下步骤之该决定方法包括：设定该罩幕之图案的第一步骤；设定图例(cutline)之第二步骤，该图例被使用于评估该投射光学系统的影像平面上所形成之罩幕的图案之影像、及该影像之目标位置；设定复数元件光源之第三步骤，该等元件光源形成该照明光学系统的该光强度分布；计算用于该复数元件光源之每一者的罩幕之图案的影像之第四步骤，该影像系于照明该罩幕之图案时形成在该图例上；及决定该元件光源之强度的第五步骤，使得来自所计算之影像的图例上之该罩幕的图案之影像的位置接近该目标位置，藉此决定该光强度分布。