发明名称 决定方法、曝光方法、和储存媒介
摘要 本发明提供一决定方法,其包含以下步骤:产生复数形成在照明光学系统的光瞳平面上之元件光源;设定复数被预期存在于该投射光学系统中之像差状态;对于该复数像差状态及该复数元件光源之所有组合的每一者计算罩幕之图案的光学影像,当该复数像差状态之中的一像差状态系在该投射光学系统中产生,且该罩幕之图案系以该复数元件光源之中的一元件光源照明时,该光学影像系形成在评估区域中;基于所计算之光学影像决定藉由组合被施加以重量的该复数元件光源所获得之光源,当作待形成在该光瞳平面上之光强度分布。
申请公布号 TWI448836 申请公布日期 2014.08.11
申请号 TW100133228 申请日期 2011.09.15
申请人 佳能股份有限公司 日本 发明人 行田裕一;辻田好一郎
分类号 G03F7/20;H01L21/027;G02B5/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种决定待形成在照明光学系统的光瞳平面上之光强度分布的决定方法,该照明光学系统照明曝光设备中之罩幕,该曝光设备包含该照明光学系统及投射光学系统,该投射光学系统将该罩幕之图案投射至基板上,该方法包括:设定该罩幕之图案的第一步骤,该罩幕被放置在该投射光学系统之物件平面上;设定评估区域之第二步骤,该评估区域用于评估该第一步骤中所设定之罩幕的图案之光学影像,该光学影像系形成在该投射光学系统之影像平面上;产生复数元件光源之第三步骤,该等元件光源形成在该照明光学系统的光瞳平面上;设定复数不同像差状态之第四步骤,该等像差状态被预期存在于该投射光学系统中;对于该复数像差状态及该复数元件光源之所有组合的每一者计算该罩幕之图案的光学影像之第五步骤,当选自该第四步骤中所设定之复数像差状态的一像差状态系在该投射光学系统中产生,且该罩幕之图案系以选自该第三步骤中所产生之复数元件光源的一元件光源照明时,该光学影像系在该第二步骤中所设定之评估区域中形成;及基于该第五步骤中所计算之光学影像决定待施加至该复数元件光源之每一者的重量(weight)之第六步骤,使得于该评估区域中,该罩幕之图案的光学影像之每一者的边缘位置接近目标边缘位置,藉此决定藉由组合被施加以该等重量的该复数元件光源所获得之光源,当作待形成在该照明光学系统的光瞳平面上之光强度分布。
地址 日本