Hybride Photoresistzusammensetzung sowie musterbildendes Verfahren unter Verwendung derselben

摘要

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine hybride Photoresistzusammensetzung für eine verbesserte Auflösung sowie auf ein musterbildendes Verfahren unter Verwendung der Photoresistzusammensetzung. Die Photoresistzusammensetzung beinhaltet einen strahlungsempfindlichen Säuregenerator, ein quervernetzendes Agens sowie ein Polymer mit einer hydrophoben Monomer-Einheit und einer hydrophilen Monomer-Einheit, die eine Hydroxyl-Gruppe enthält. Wenigstens einige der Hydroxyl-Gruppen sind mit einer säurelabilen funktionellen Gruppe mit einer niedrigen Aktivierungsenergie geschützt. Das Photoresist ist in der Lage, eine hybride Reaktion auf eine einzelne Belichtung zu erzeugen. Das musterbildende Verfahren verwendet die hybride Reaktion, um eine Struktur mit Muster in der Photoresistschicht zu bilden. Die Photoresistzusammensetzung und das musterbildende Verfahren der vorliegenden Erfindung sind nützlich, um kleine Elemente mit einer präzisen Abbildungssteuerung zu drucken, im Besonderen Zwischenräume mit geringen Abmessungen.