| 发明名称 | 一种清洁系统和方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种清洁系统和方法，系统包括：第一清洁装置、光学检测装置和第二清洁装置，其中，第一清洁装置用于采用气体清洁的方式对母板进行清洁；光学检测装置用于对气体清洁后的母板进行光学检测，判断所述母板上是否存在灰尘以及确定灰尘的位置坐标；第二清洁装置用于根据光学检测装置确定的灰尘的位置坐标，清除所述母板上相应位置坐标处的灰尘。采用本发明，能够有效清除母板上的灰尘，降低基板不良现象的发生，提高产品的良率。 | ||
| 申请公布号 | CN103962347A | 申请公布日期 | 2014.08.06 |
| 申请号 | CN201310027464.7 | 申请日期 | 2013.01.24 |
| 申请人 | 北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 焦宇;王晏酩;刘杰 |
| 分类号 | B08B7/04(2006.01)I;B08B5/00(2006.01)I;B08B1/04(2006.01)I | 主分类号 | B08B7/04(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人 | 蒋雅洁;程立民 |
| 主权项 | 一种清洁系统，其特征在于，该系统包括：第一清洁装置、光学检测装置和第二清洁装置，其中，所述第一清洁装置，用于采用气体清洁的方式对母板进行清洁；所述光学检测装置，用于对气体清洁后的母板进行光学检测，判断所述母板上是否存在灰尘以及确定灰尘的位置坐标；所述第二清洁装置，用于根据所述光学检测装置确定的灰尘的位置坐标，清除所述母板上相应位置坐标处的灰尘。 | ||
| 地址 | 100176 北京市大兴区经济技术开发区西环中路8号 | ||