发明名称 用于降低的电流拥挤的双极性结型晶体管结构及制造其的方法
摘要 本公开内容涉及相对于常规BJT在改善电流增益的同时显著降低电流拥挤的双极性结型晶体管(BJT)结构。BJT包括:集电极、基极区、和发射极。所述基极区被形成在所述集电极上方并包括至少一个外基区并包括内基区,所述内基区在所述至少一个外基区之上延伸以提供台式晶体管。所述发射极被形成在所述台式晶体管上方。BJT可以由各种材料体系形成,诸如碳化硅(SiC)材料体系。在一个实施例中,发射极在台式晶体管上方形成,使得实质上没有发射极在外基区上方形成。通常,但不必须,内基区直接横向邻接至少一个外基区。
申请公布号 CN103975439A 申请公布日期 2014.08.06
申请号 CN201280061214.9 申请日期 2012.12.11
申请人 科锐 发明人 L.程;A.K.阿加瓦尔;S-H.刘
分类号 H01L29/732(2006.01)I;H01L21/331(2006.01)I;H01L29/10(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L29/16(2006.01)I 主分类号 H01L29/732(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 蒋骏;刘春元
主权项  一种双极性结型晶体管,包括:·集电极;·基极区,被形成在所述集电极上方并包括至少一个外基区并包括内基区,所述内基区在所述至少一个外基区之上延伸以提供台式晶体管;以及·发射极,被形成在所述台式晶体管上方。
地址 美国北卡罗来纳州