发明名称 一种真空快速多相沉积系统制备YSZ涂层的方法
摘要 本发明公开了一种真空快速多相沉积系统制备YSZ涂层的方法,涉及一种新型结构热障涂层及其制备技术领域。所述制备方法中真空室压力低于1mbar,选择Ar35splm,He60slpm作为工作气体,通过调整电功率、电流、喷涂距离和送粉率等工艺参数,可以根据需要将YSZ颗粒加热到固液气三相或其任意组合相,即可以沉积出多种形貌的YSZ涂层,如柱状晶结构,纳米多层结构,纳米多层加柱状晶结构,纳米加微米多层结构等等。采用本发明提供制备方法得到的涂层组织致密,无液滴、颗粒以及针孔等缺陷,涂层与粘结层的结合力高;焰流能够在复杂的几何形状表面的流动,因此可以实现几何形状复杂的工件表面均匀涂层的制备。
申请公布号 CN103966540A 申请公布日期 2014.08.06
申请号 CN201410143990.4 申请日期 2014.04.11
申请人 北京航空航天大学 发明人 郭洪波;李晨祎;魏亮亮;高丽华;宫声凯;徐惠彬
分类号 C23C4/10(2006.01)I 主分类号 C23C4/10(2006.01)I
代理机构 北京永创新实专利事务所 11121 代理人 姜荣丽
主权项 一种真空快速多相沉积系统制备YSZ涂层的方法,其特征在于:第一步,准备高温基体;第二步,在高温基体上制备YSZ陶瓷层,具体步骤如下:(1)调整保护气体流量,选择Ar35splm,He60slpm;(2)将基体放入真空室内工件运动台上,抽真空室压力低于1mbar;(3)设定电功率75kw~100kw,设定电流为2000~2500A,引电弧,待电弧稳定后,调整工件距离为1400mm,将工件移入等离子焰流中,加热基体,用红外探头探测基体温度,直至基体温度达到1000℃;(4)打开送粉器,调整送粉率5~30g/min;(5)调整工件转速0~30rpm,调整工件距离800~1400mm;(6)制备结束,停止送粉,灭电弧,待真空室冷却,泄真空,取出样品,得到YSZ涂层。
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