发明名称 基于异质结的浮动结太阳能电池背钝化结构及其制备工艺
摘要 本发明涉及一种基于异质结的浮动结太阳能电池背钝化结构,包括P型晶体硅,所述的P型晶体硅衬底底部具有由本征异质材料层以及N型异质材料层构成的异质结结构,所述的本征异质材料层插于N型异质材料层与P型晶体硅之间,N型异质材料层外部包裹有绝缘层,所述的绝缘层的底部设置有铝金属层;所述的P型晶体硅衬底底部两端设置有P+定域掺杂区,P+定域掺杂区的下方具有点接触的铝烧结区。本发明在保留异质结的良好钝化效果的同时,可以将光生空穴通过背结构良好导出,还能防止同质浮动结的针孔寄生回路问题。
申请公布号 CN102522445B 申请公布日期 2014.08.06
申请号 CN201110405263.7 申请日期 2011.12.08
申请人 常州天合光能有限公司 发明人 王旺平
分类号 H01L31/072(2012.01)I;H01L31/0747(2012.01)I;H01L31/0352(2006.01)I;H01L31/0224(2006.01)I;H01L31/18(2006.01)I 主分类号 H01L31/072(2012.01)I
代理机构 常州市维益专利事务所 32211 代理人 路接洲
主权项 一种基于异质结的浮动结太阳能电池背钝化结构的制备工艺,其特征在于包括以下步骤:1)在P型晶体硅衬底上利用PECVD沉积本征非晶硅层,厚度范围为0~15nm;2)在本征非晶层上继续利用PECVD沉积N型非晶硅层,厚度范围为5~30nm,N掺杂的浓度为1E16cm<sup>‑3</sup>~1E20cm<sup>‑3</sup>;3)利用掩膜刻蚀N型非晶硅层和本征非晶硅层;4)利用PECVD等离子化学气相沉积设备沉积SiO<sub>2</sub>绝缘层,沉积的厚度为20~100nm;5)利用PVD物理气相沉积设备沉积100~500nm的铝金属层;6)利用激光脉冲退火技术将铝穿透SiO<sub>2</sub>绝缘层烧结进P型晶体硅,形成P+定域掺杂区和铝烧结区。
地址 213031 江苏省常州市新北区电子产业园天合路2号