发明名称 |
用于将掩膜版和基板对齐的方法及彩膜基板的制造方法 |
摘要 |
本发明公开了用于将掩膜版和基板对齐的方法及彩膜基板的制造方法,对齐的方法包括如下步骤:在基板上形成至少一个基板对位标记集合,其包括n个基板对位标记,n个基板对位标记是X种形貌的基板对位标记,n是每个像素包括的子像素的个数,n是大于等于3的自然数,X是小于等于n的自然数;在掩膜版上形成与基板对位标记集合一一对应的掩膜对位标记集合,其包括n个掩膜对位标记,n个掩膜对位标记是Y种形貌的掩膜对位标记,Y是小于等于n的自然数且XY≥n;掩膜对位标记集合和与之对应的基板对位标记集合对位,每一个掩膜对位标记与一个基板对位标记对位形成n种不同的对位形貌。制造的方法包括对齐方法。本发明便于进行对位的确认。 |
申请公布号 |
CN103969873A |
申请公布日期 |
2014.08.06 |
申请号 |
CN201410164615.8 |
申请日期 |
2014.04.23 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
发明人 |
王耸;万冀豫;杨同华 |
分类号 |
G02F1/1333(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I;G03F9/00(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1333(2006.01)I |
代理机构 |
北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 |
代理人 |
宋珊珊 |
主权项 |
一种用于将掩膜版和基板对齐的方法,其特征在于,包括如下步骤:在基板上形成至少一个基板对位标记集合,每个所述基板对位标记集合包括n个基板对位标记,所述n个基板对位标记是X种形貌的基板对位标记,其中,n是所制造彩膜基板的每个像素包括的子像素的个数,n是大于等于3的自然数,X是小于等于n的自然数;在掩膜版上形成与所述基板对位标记集合一一对应的掩膜对位标记集合,每个所述掩膜对位标记集合包括n个掩膜对位标记,所述n个掩膜对位标记是Y种形貌的掩膜对位标记,Y是小于等于n的自然数且XY≥n;所述掩膜对位标记集合和与之对应的基板对位标记集合对位,每一个掩膜对位标记与一个基板对位标记对位形成n种不同的对位形貌。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |