| 发明名称 | 一种抛光磨料及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种抛光磨料，所述磨料包括碳化硅、弹性体、偶联剂和助剂；所述碳化硅一端嵌入弹性体中，另一端露出弹性体。本发明还提供了该抛光磨料的制备方法。本发明的弹性体可以缓冲磨料在研磨物质时产生的作用力，可避免玻璃表面划伤，克服了传统SiC抛光的表观缺陷问题，且磨料处理后可重复利用，大大降低了抛光成本。 | ||
| 申请公布号 | CN103965832A | 申请公布日期 | 2014.08.06 |
| 申请号 | CN201310034978.5 | 申请日期 | 2013.01.30 |
| 申请人 | 比亚迪股份有限公司 | 发明人 | 何晓斌;祝学远;周翔磊 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 代理人 | ||
| 主权项 | 一种抛光磨料，其特征在于：所述磨料包括碳化硅、弹性体、偶联剂和助剂；所述碳化硅一端嵌入弹性体中，另一端露出弹性体。 | ||
| 地址 | 518118 广东省深圳市坪山新区比亚迪路3009号 | ||