发明名称 | 阶段式全蚀刻工艺 | ||
摘要 | 本发明公开了一种阶段式全蚀刻工艺,其特征在于,包括以下处理阶段:基板双面涂墨及曝光阶段-基板单面首次蚀刻阶段-基板另一面的二次蚀刻阶段。本发明的有益之处在于:工艺步骤设计合理,制程简单,容易操作;重心低,运行稳定,不容易损坏产品;采用本发明的方法生产出来的蚀刻产品无连接点,既美观又保证了良好的使用功能;通过有粘性膜为载体,在全部蚀刻完成后产品不散乱,仍整齐排列在粘性的膜上,方便后续产品加工或使用。 | ||
申请公布号 | CN103966603A | 申请公布日期 | 2014.08.06 |
申请号 | CN201310042224.4 | 申请日期 | 2013.02.04 |
申请人 | 苏州市吴中区伟良电子有限公司 | 发明人 | 周雪良 |
分类号 | C23F1/02(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/02(2006.01)I |
代理机构 | 代理人 | ||
主权项 | 阶段式全蚀刻工艺,其特征在于,包括以下步骤:(1)、将基板的A、B两面均匀的印刷上阻焊油墨,并进行干燥;(2)、对上述基板的A、B两面进行曝光;(3)、在上述基板的A面粘贴粘性膜,对B面进行蚀刻,蚀刻深度不穿透基板;(4)、去除B面的阻焊油墨;(5)、将上述基板的B面粘贴粘性膜,对A面进行蚀刻,蚀刻深度穿透基板;(6)、去除A面的阻焊油墨。 | ||
地址 | 215164 江苏省苏州市吴中区胥口香山工业园 |