发明名称 一种低温下由氧化铁直接电沉积制备纳米铁镀层的方法
摘要 本发明涉及一种低温下由氧化铁直接电沉积制备纳米铁镀层的方法,属于绿色电镀工艺技术领域。本发明主要包括以下步骤:以三氧化二铁粉末(化学分析纯)为原料;电解质采用质量分数为50%的NaOH水溶液,阳极采用铂丝,阴极采用铜片;将过量的三氧化二铁粉末置于NaOH溶液中搅拌以得到饱和溶液;在60~80℃温度区间,以1.8V恒电压进行电镀,电镀时间为1–3h,电镀后取出阴极,水洗干燥后可得到铁镀层。
申请公布号 CN103966635A 申请公布日期 2014.08.06
申请号 CN201410139768.7 申请日期 2014.04.09
申请人 上海大学 发明人 鲁雄刚;谷山林;邹星礼;沈斌;赖冠全;耿淑华;肖玮
分类号 C25D3/20(2006.01)I 主分类号 C25D3/20(2006.01)I
代理机构 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人 陆聪明
主权项  一种低温下由氧化铁直接电沉积制备纳米铁镀层的方法,其特征在于,该方法具有如下步骤:a. 将片状NaOH溶于蒸馏水中配制得到质量分数为50%的NaOH溶液,置于电解槽中;并将过量化学分析纯的三氧化二铁粉末置于NaOH溶液中,搅拌后得到氧化铁饱和溶液;b. 选用经抛光、活化后的方形铜片作为阴极,选用铂丝为阳极,置于步骤a中的饱和溶液中,电镀时的温度由恒温控温仪和电热套控制在60–80℃,电压为1.8V,电镀时间为1‑3h,电镀完成后取出阴极用蒸馏水冲洗干净,再用无水酒精洗净,烘干后即可得到纳米铁镀层。
地址 200444 上海市宝山区上大路99号