发明名称 扣合结构
摘要 一种扣合结构,一侧扣合被固定件,另一侧枢接工作件而结合工作件与被固定件,扣合结构包括本体、第一扣件、第二扣件、凹槽、第一转轴及第二转轴;本体包含第一侧及第二侧,第一扣件位于第一侧的一端,第二扣件位于第一侧的另一端,凹槽位于本体而由第一侧向第二侧内凹形成,第一转轴位于第二侧的一端,包含第一延伸段,连接本体,第一延伸段与凹槽的内侧之间形成第一应力集中区,第二转轴位于第二侧的另一端,包含第二延伸段,连接本体,第二延伸段与凹槽的内侧之间形成第二应力集中区;当第一扣件以第一转轴为中心旋转时,其旋转的应力分散至第一应力集中区,当第二扣件以第二转轴为中心旋转时,其旋转的应力分散至第二应力集中区。
申请公布号 CN203756721U 申请公布日期 2014.08.06
申请号 CN201420147868.X 申请日期 2014.03.28
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 徐久岚;曾任黴
分类号 F16C11/04(2006.01)I 主分类号 F16C11/04(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 梁挥;祁建国
主权项 一种扣合结构,其特征在于,一侧扣合一被固定件,另一侧枢接一工作件而结合该工作件与该被固定件,该扣合结构包括:一本体,包含一第一侧及一第二侧;一第一扣件,位于该第一侧的一端;一第二扣件,位于该第一侧的另一端;一凹槽,位于该本体而由该第一侧向该第二侧内凹形成;一第一转轴,位于该第二侧的一端,包含一第一延伸段,连接该本体,该第一延伸段与该凹槽的内侧之间形成一第一应力集中区;及一第二转轴,位于该第二侧的另一端,包含一第二延伸段,连接该本体,该第二延伸段与该凹槽的内侧之间形成一第二应力集中区;其中,当该第一扣件以该第一转轴为中心旋转时,其旋转的应力分散至该第一应力集中区,当该第二扣件以该第二转轴为中心旋转时,其旋转的应力分散至该第二应力集中区。
地址 中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路1号