发明名称 一种Ge衬底异质结热光伏电池
摘要 本实用新型涉及一种Ge衬底异质结热光伏电池,包括作为基区的Ge衬底,Ge衬底上面自下至上依次生长有发射区、上电极接触层和上电极,Ge衬底下面制有下电极,Ge衬底为较窄禁带宽度p-Ge层;发射区为较宽禁带宽度n-Ga<sub>x</sub>In<sub>y</sub>P层。本实用新型由于采用具有较宽禁带宽度的Ga和In比例能够精确调节的n-Ga<sub>x</sub>In<sub>y</sub>P层作为发射区,采用较窄禁带宽度的p-Ge衬底作为基区,形成了发射区与基区晶格精确匹配的异质结结构,降低了Ga<sub>x</sub>In<sub>y</sub>P/Ge界面复合,宽带隙发射区减少了发射区对光的吸收而增加了基区对光的吸收,从而减小了光生载流子在n型发射区及其表面处复合,提高了光生载流子收集效率,提高了电池的光电转换效率。
申请公布号 CN203760498U 申请公布日期 2014.08.06
申请号 CN201320723250.9 申请日期 2013.11.13
申请人 中国电子科技集团公司第十八研究所 发明人 潘振;赵彦民;方亮;纪伟伟;赖运子;乔在祥
分类号 H01L31/0735(2012.01)I;H01L31/0224(2006.01)I;H01L31/041(2014.01)I;H01L31/18(2006.01)I 主分类号 H01L31/0735(2012.01)I
代理机构 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 代理人 李凤
主权项 一种Ge衬底异质结热光伏电池,包括作为基区的Ge衬底,Ge衬底上面自下至上依次为发射区、电极接触层和上电极,Ge衬底下面制有下电极,其特征在于:所述Ge衬底为厚度50~500μm的窄禁带宽度p‑Ge层;所述发射区为厚度小于500nm的宽禁带宽度n‑Ga<sub>x</sub>In<sub>y</sub>P层,电极接触层与上电极的形状、线宽相同,其顶部被上电极所覆盖;发射区未被栅线和电极接触层覆盖的上表面制有光学减反射层。 
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