发明名称 | 一种氧化锆承烧板结构 | ||
摘要 | 本实用新型属于电子元器件技术领域,具体的说是涉及一种氧化锆承烧板结构,其主要是为了提供一种持久耐用的电子元器件的承烧板结构,提高流水线生产的生产效率,提高产品的合格率和生产质量,一种氧化锆承烧板结构,包括碳化硅层,在碳化硅层的外表面包裹覆盖有硫柠镁材料层,在硫柠镁材料层的最上表面设置有氧化锆层,在碳化硅层沿竖直方向设置有圆柱形的支撑体,且支撑体的个数最少为3个,其分别布置在碳化硅层的中间和两端位置处,硫柠镁材料层的厚度为0.4~0.6mm,氧化锆层的厚度为0.7mm,本实用新型简单使用,有效的提高了承烧板的使用寿命,提高了承烧板的刚度等级。 | ||
申请公布号 | CN203758273U | 申请公布日期 | 2014.08.06 |
申请号 | CN201420150463.1 | 申请日期 | 2014.03.31 |
申请人 | 焦作市科力达科技有限公司 | 发明人 | 梁国庆;梁坤;霍天才 |
分类号 | F27D5/00(2006.01)I | 主分类号 | F27D5/00(2006.01)I |
代理机构 | 郑州大通专利商标代理有限公司 41111 | 代理人 | 陈大通 |
主权项 | 一种氧化锆承烧板结构,包括碳化硅层,其特征是:在碳化硅层的外表面包裹覆盖有硫柠镁材料层,在硫柠镁材料层的最上表面设置有氧化锆层。 | ||
地址 | 454150 河南省焦作市中站区焦克路北 |