发明名称 |
GaN基LED网孔电极的制作方法 |
摘要 |
一种GaN基LED网孔电极的制作方法,包括以下步骤:1)在GaN基外延片的表面蒸镀ITO膜;2)在ITO膜的表面排列一单层紧密排列的自组装球;3)加热,使自组装球与ITO膜结合牢固;4)采用ICP方法,刻蚀自组装球,经过刻蚀后,自组装球间距变大,球半径减小;5)再加热,使自组装球在ITO膜表面有稍微塌陷,把点接触变成面接触;6)在自组装球的表面、间隙里及ITO膜的表面蒸镀金属;7)采用甲苯超声方法,去除自组装球表面的金属,保留ITO膜表面金属;8)高温处理,使自组装球气化,使ITO膜表面的金属形成网孔状电极,完成网孔电极的制作。具有电极的接触电阻小、透过率高、出光效率高以及电流分布均匀的优点。 |
申请公布号 |
CN102709433B |
申请公布日期 |
2014.08.06 |
申请号 |
CN201210174972.3 |
申请日期 |
2012.05.30 |
申请人 |
中国科学院半导体研究所 |
发明人 |
王家鑫;吴奎;曾一平 |
分类号 |
H01L33/38(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I |
主分类号 |
H01L33/38(2010.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
汤保平 |
主权项 |
一种GaN基LED网孔电极的制作方法,包括以下步骤:1)在GaN基外延片的表面蒸镀ITO膜;2)在ITO膜的表面排列一单层紧密排列的自组装球;3)加热,使自组装球与ITO膜结合牢固;4)采用ICP方法,刻蚀自组装球,经过刻蚀后,自组装球间距变大,球半径减小,所述采用ICP方法,刻蚀气体为氧气,300W的启辉功率,10W刻蚀功率,刻蚀时间为1‑2min;5)再加热,使自组装球在ITO膜表面有稍微塌陷,把点接触变成面接触;6)在自组装球的表面、间隙里及ITO膜的表面蒸镀金属,所述蒸镀的金属为Ni和Au,Ni的厚度为1‑5nm,Au的厚度为10‑50nm;7)采用甲苯超声方法,去除自组装球表面的金属,保留ITO膜表面金属;8)采用温度为500‑600℃的高温处理,使自组装球气化,使ITO膜表面的金属形成网孔状电极,完成网孔电极的制作。 |
地址 |
100083 北京市海淀区清华东路甲35号 |