发明名称 |
衬底台、光刻设备、衬底边缘平坦化方法及器件制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种衬底台、一种光刻设备、一种衬底边缘平坦化方法及一种器件制造方法。所述衬底台支撑衬底。所述衬底台包括衬底支撑件,所述衬底支撑件用于支撑所述衬底并且沿第一方向向衬底的边缘施加弯曲力。设置衬底边缘操作装置,其配置用于沿第二方向向衬底的边缘施加可变的弯曲力。所述第二方向至少具有在方向上与第一方向相反的分量。 |
申请公布号 |
CN102243446B |
申请公布日期 |
2014.08.06 |
申请号 |
CN201110119282.3 |
申请日期 |
2011.05.05 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
R·W·L·拉法瑞;N·J·J·罗塞特;M·霍本 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
吴敬莲 |
主权项 |
一种用于支撑衬底的衬底台,包括:衬底支撑件,所述衬底支撑件用于支撑所述衬底,并且沿第一方向将弯曲力施加到所述衬底的边缘;衬底边缘操作装置,适用于沿第二方向将可变的弯曲力施加到所述衬底的所述边缘,其中所述第二方向至少具有在方向上与所述第一方向相反的一分量;以及控制器,所述控制器适用于基于信号来控制由所述衬底边缘操作装置施加到所述衬底的所述边缘的力,所述信号是指示所述衬底台相对于参考位置的位置的信号。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |