发明名称 |
Q开关调节装置 |
摘要 |
本实用新型提供了一种Q开关调节装置,包括一Q开关、一镜架底板、一镜架下盖以及一镜架上盖,Q开关呈圆柱状,且具有两个电极;镜架上盖贯设一让位槽,用于收容两个电极;镜架下盖上设有两个竖直位移调节装置和两个水平位移调节装置,其中,两个竖直位移调节装置分别位于镜架下盖的两个对角处,两个水平位移调节装置位于镜架下盖的同一侧。当Q开关需要调节时,直接调节两个竖直位移调节装置可以改动Q开关在竖直方向上的位移,直接调节两个水平位移调节装置在水平方向上的位移,并且Q开关呈圆筒状,还可以自由转动,因此通过上述方式可以将Q开关调节到准确的位置,调节起来较为方便。 |
申请公布号 |
CN203760840U |
申请公布日期 |
2014.08.06 |
申请号 |
CN201420037807.8 |
申请日期 |
2014.01.22 |
申请人 |
武汉华工激光医疗设备有限公司 |
发明人 |
朱晓峰 |
分类号 |
H01S3/11(2006.01)I |
主分类号 |
H01S3/11(2006.01)I |
代理机构 |
北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 |
代理人 |
张瑾 |
主权项 |
一种Q开关调节装置,其特征在于,包括一Q开关、一镜架底板、一镜架下盖以及一镜架上盖,所述镜架下盖安装于所述镜架底板上,所述镜架下盖与所述镜架上盖相固定,所述Q开关设于所述镜架下盖与所述镜架上盖之间;所述Q开关呈圆柱状,且具有两个电极;所述镜架上盖贯设一让位槽,用于收容两个电极;所述镜架下盖上设有两个竖直位移调节装置和两个水平位移调节装置,其中,两个所述竖直位移调节装置分别位于所述镜架下盖的两个对角处,两个所述水平位移调节装置位于所述镜架下盖的同一侧。 |
地址 |
430223 湖北省武汉市东湖开发区华中科技大学科技园激光产业园 |