改善离子束传送的技术

摘要

本发明公开一种用于改善离子植入的技术。在一特定例示性实施例中，可如下来实现所述技术，一种离子植入系统包括：离子源，用于产生离子束；质量分析器，用于从离子束中的离子粒子中选择所要离子种类；离子减速器，经配置以减少离子束中的离子的能量；终端站，用于支撑将利用来自离子束的离子进行植入的至少一工件；以及中性粒子分离器，经配置以在离子束到达离子减速器之前从离子束中移除带中性电荷的粒子。

主权项

一种离子植入系统，其特征在于包括：离子源，用于产生离子束；质量分析器，用于从所述离子束中的离子粒子中选择所要离子种类；角度修正器磁铁经配置以使所述所要离子种类的离子偏转，且将所述离子束转换成带状离子束；离子减速器，经配置以减少所述带状离子束中的所述所要离子种类的离子的能量；终端站，用于支撑植入所述所要离子种类的至少一工件；以及中性粒子分离器，经配置以在所述带状离子束到达所述离子减速器之前从所述带状离子束中移除带中性电荷的粒子，其中所述中性粒子分离器配置在角度修正器磁铁的下游且所述中性粒子分离器包括用于从所述带状离子束中移除中性粒子的电极，所述中性粒子分离器进一步包括静电偏转器及背景气体阱，所述背景气体阱在植入期间通过冷却所述静电偏转器的所述电极以经由冷凝捕获背景气体。