发明名称 磁记录介质的制造方法及装置
摘要 一种磁记录介质的制造方法及装置,其目的在于降低润滑层的摩擦系数、且提高由润滑层对保护层表面的覆盖率。在一种在被积层体上按顺序形成磁记录层、保护层、润滑层的磁记录介质的制造方法中,润滑层的形成是使形成了保护层后的被积层体不与大气接触而利用气相润滑成膜方法在被积层体上涂布第一润滑剂,在涂布了第一润滑剂后,使被积层体不与大气接触而利用气相润滑成膜方法在被积层体上涂布第二润滑剂。
申请公布号 CN103971705A 申请公布日期 2014.08.06
申请号 CN201410028647.5 申请日期 2014.01.21
申请人 昭和电工株式会社 发明人 冈部健彦;藤克昭
分类号 G11B5/725(2006.01)I;G11B5/84(2006.01)I 主分类号 G11B5/725(2006.01)I
代理机构 北京市中咨律师事务所 11247 代理人 李照明;段承恩
主权项 一种在被积层体上按顺序形成磁记录层、保护层、润滑层的磁记录介质的制造方法,其特征在于,所述润滑层的形成是,使形成了所述保护层后的被积层体不与大气接触而利用气相润滑成膜方法在所述被积层体上涂布第一润滑剂,在涂布了所述第一润滑剂后,使所述被积层体不与大气接触而利用气相润滑成膜方法在所述被积层体上涂布第二润滑剂。
地址 日本东京都