离子注入设备及离子注入方法

摘要

本发明提供了一种等离子注入设备和等离子体注入方法，包括：在离子注入前，将载片台上的晶圆固定设置；开启离子发生腔和第一偏转单元；离子发生腔发出离子束穿过第一偏转单元后冲击到法拉第杯上，法拉第杯检测离子束的属性；如果离子束的属性符合要求，第二偏转单元开启；离子束在第二偏转单元中发生偏转，离开第二偏转单元冲击到晶圆上；通过控制第二偏转单元的施加于离子束上的力的大小，来控制离子束的偏转角度，从而使离子束在晶圆上作上下移动扫描；在离子注入的整个过程中，载片台不发生任何动作。本发明减少了载片台的维护成本，减小了对工艺腔的真空度的影响，避免了晶圆上颗粒的产生，并提高了响应速度，从而提高了工艺质量。

主权项

一种离子注入设备，具有离子反应腔室，所述离子反应腔室包括离子发生腔、可移动载片台和法拉第杯，其特征在于，包括：第一偏转单元，设置于所述离子发生腔和所述法拉第杯之间，用于使所述离子发生腔的发出的离子束沿着一定的方向运动；第二偏转单元，设置于所述第一偏转单元和所述载片台之间，用于使从所述第一偏转单元出来的离子束发生偏转，从而对准所述载片台上的晶圆进行上下移动扫描；所述法拉第杯，位于穿过所述第一偏转单元的离子束的运动方向上，用于接受穿过所述第一偏转单元后的离子束的冲击。