发明名称 |
一种钕铁硼永磁材料表面镀层工艺 |
摘要 |
本发明为一种钕铁硼永磁材料表面镀层工艺以及具有镀层的钕铁硼永磁材料。该工艺在钕铁硼永磁材料基体表面进行镀层按照从里往外的顺序依次采用电镀底面镍层、化学镀镍层、电镀铜层、和电镀外面镍层进行镀覆,镀层结束后放置于真空炉中热处理。采用该工艺制备的钕铁硼永磁材料镀层的总厚度为15~30μm,电镀底面镍层的厚度为:5~10μm、电镀铜层厚度为5~10μm、和电镀外面镍层厚度为5~10μm,化学镀镍层的厚度为3~10μm。该工艺制备镀层减少了气泡、疏松、锈渍的产生,提高了镀层的附着力,减少孔隙率,得到致密的镀层,这样大大的提高了磁体表面电镀层的品质。提高了盐雾试验指标,提高了产品的合格率。 |
申请公布号 |
CN102586776B |
申请公布日期 |
2014.08.06 |
申请号 |
CN201210041122.6 |
申请日期 |
2012.02.22 |
申请人 |
沈阳中北通磁科技股份有限公司 |
发明人 |
孙宝玉;崔振华;裴文利;惠鑫;刘振刚 |
分类号 |
C23C28/02(2006.01)I;C23C18/36(2006.01)I;C25D5/14(2006.01)I;H01F1/057(2006.01)I |
主分类号 |
C23C28/02(2006.01)I |
代理机构 |
沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 |
代理人 |
俞鲁江 |
主权项 |
一种钕铁硼永磁材料表面镀层工艺,其特征在于,在钕铁硼永磁材料基体表面进行镀层,按照从里往外的顺序依次采用电镀底面镍层、化学镀镍层、电镀铜层和电镀外面镍层进行镀覆;镀层结束后放置于真空炉中热处理,真空热处理的真空度为10<sup>‑3</sup>~10<sup>‑5</sup>MPa,加热温度为750~1000℃条件下进行热扩散处理1.5‑3h,随炉冷却至50℃以下取出。 |
地址 |
110179 辽宁省沈阳市浑南新区汇泉东路8号 |