发明名称 |
利用平版印刷术及间隔物形成图案的方法 |
摘要 |
一些实施例包括形成图案的方法。以光刻方式在衬底上方形成第一组特征,且接着以光刻方式在所述衬底上方形成第二组特征。所述第二组中的所述特征中的至少一些特征与所述第一组中的特征交替。在所述第一及第二组中的所述特征上方及之间形成间隔物材料。各向异性地蚀刻所述间隔物材料以沿所述第一及第二组中的所述特征形成间隔物。接着移除所述第一及第二组中的所述特征以在所述衬底上方留下所述间隔物的图案。 |
申请公布号 |
CN102177570B |
申请公布日期 |
2014.08.06 |
申请号 |
CN200980140234.3 |
申请日期 |
2009.09.10 |
申请人 |
美光科技公司 |
发明人 |
阿尔达万·尼鲁曼德;古尔特杰·S·桑胡;马克·基尔鲍赫;斯科特·西里斯 |
分类号 |
G03F7/00(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I |
主分类号 |
G03F7/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 |
代理人 |
宋献涛 |
主权项 |
一种形成图案的方法,其包含:以平版印刷方式在衬底上方形成第一组掩蔽特征,所述第一组中的一对特征彼此邻近且通过第一间隙彼此间隔;以平版印刷方式在所述衬底上方形成第二组掩蔽特征,所述第二组中的所述特征中的至少一者位于所述第一组中的所述邻近特征之间的所述间隙内;所述第一及第二组中的所述掩蔽特征为通过介入空间彼此分开的多个离散特征;在所述第一及第二组中的所述掩蔽特征上方及之间形成间隔物材料;各向异性地蚀刻所述间隔物材料以沿所述第一及第二组中的所述掩蔽特征形成间隔物;移除所述第一及第二组中的所述掩蔽特征以在所述衬底上方留下所述间隔物的图案,以便在后续处理期间将所述间隔物的图案转印到下伏于所述间隔物之下的所述衬底中;其中所述以平版印刷方式形成所述第一组掩蔽特征包含以光刻方式形成所述第一组作为第一组光致抗蚀剂特征;其中所述以平版印刷方式形成所述第二组掩蔽特征包含以光刻方式形成所述第二组作为第二组光致抗蚀剂特征;其中将所述第一组光致抗蚀剂特征形成为处于第一间距处;且其中将所述第二组光致抗蚀剂特征形成为处于第二间距处,其中所述第二间距与所述第一间距相同。 |
地址 |
美国爱达荷州 |