发明名称 Procedimiento de purificación de silicio para aplicaciones fotovoltaicas
摘要 Procedimiento de purificación de silicio por exposición de silicio líquido (3) a un plasma (20), caracterizado por que el silicio (3) fluye de manera continua en un canal (4) de tal manera que su superficie libre esté expuesta al plasma (20), siendo la relación entre el tiempo de exposición al plasma y el grosor del silicio en el canal tal que las impurezas tengan el tiempo de difundirse hacia la superficie para ser volatilizadas y eliminadas
申请公布号 ES2483140(T3) 申请公布日期 2014.08.05
申请号 ES20090718612T 申请日期 2009.03.05
申请人 CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (C.N.R.S);INSTITUT POLYTECHNIQUE DE GRENOBLE 发明人 TRASSY, CHRISTIAN;DELANNOY, YVES
分类号 C01B33/037;C22B9/22 主分类号 C01B33/037
代理机构 代理人
主权项
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