发明名称 |
Procedimiento de purificación de silicio para aplicaciones fotovoltaicas |
摘要 |
Procedimiento de purificación de silicio por exposición de silicio líquido (3) a un plasma (20), caracterizado por que el silicio (3) fluye de manera continua en un canal (4) de tal manera que su superficie libre esté expuesta al plasma (20), siendo la relación entre el tiempo de exposición al plasma y el grosor del silicio en el canal tal que las impurezas tengan el tiempo de difundirse hacia la superficie para ser volatilizadas y eliminadas |
申请公布号 |
ES2483140(T3) |
申请公布日期 |
2014.08.05 |
申请号 |
ES20090718612T |
申请日期 |
2009.03.05 |
申请人 |
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (C.N.R.S);INSTITUT POLYTECHNIQUE DE GRENOBLE |
发明人 |
TRASSY, CHRISTIAN;DELANNOY, YVES |
分类号 |
C01B33/037;C22B9/22 |
主分类号 |
C01B33/037 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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