| 发明名称 |
用于电浆离子植入之栅极;GRID FOR PLASMA ION IMPLANT |
| 摘要 |
一种用于在电浆式离子植入而可最小化离子发散效应之栅极。该电浆栅极制成具有复数孔之平板,其中之孔排列成复数列及复数行,以形成只向一方向发散的小离子束。并使用一遮罩以在晶圆上形成植入图案,其中该遮罩上之孔朝向正交于子束发散方向的方向延伸。 |
| 申请公布号 |
TW201431099 |
申请公布日期 |
2014.08.01 |
| 申请号 |
TW102147302 |
申请日期 |
2013.12.19 |
| 申请人 |
因特瓦克公司 |
发明人 |
普拉巴卡尔 维内;艾迪比 巴巴克 |
| 分类号 |
H01L31/0224(2006.01);H01L31/042(2014.01) |
主分类号 |
H01L31/0224(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
<name>徐宏昇</name><name>李纪颖</name><name>刘晏慈</name> |
| 主权项 |
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| 地址 |
INTEVAC, INC. 美国 |
