自ＩＴＯ靶废料之铟－锡合金之回收方法、氧化铟－氧化锡粉末之制造、及ＩＴＯ靶之制造方法

摘要

本发明系一种于还原炉内利用还原气体将含有铟及锡之ITO靶废料进行还原，并在维持ITO中之金属成分组成比之状态，回收铟-锡合金作为ITO靶之原料的方法。本发明提供如下技术：从ITO溅镀靶制造时或使用后产生之含高纯度氧化铟-锡之废料回收铟-锡合金，并且将此制成氧化铟-氧化锡粉，进而将此氧化铟-氧化锡粉作为原料而制造ITO靶。即，将废料直接还原成合金，并在维持所获得之合金组成之状态下使用至ITO制造中，藉此可简化于制造步骤中之组成的控制及调整。又，可藉由铟-锡之回收仅为氧化物之还原而简化步骤，与知法相比更减少制造成本。进而，因副产物仅为水，故可抑制有害物质之处理、产生，且降低对环境之负荷。